四氟甲烷是无色、不可燃气体。常温下为压缩气体。是最稳定的有机化合物之一，在900℃时，CF4不与Cu、Ni、W、Mo反应，仅在碳弧温度下缓慢分解。与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。若遇高热，容器内压增大，有开裂和爆炸的危险。

是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。